TFT制程曝光色差研究

摘要： 在TFT制程中,曝光工藝直接影響到薄膜的最終圖案質(zhì)量。
為了分析與解決曝光色差問題,需對面板的點燈現(xiàn)象與制備工藝進(jìn)行調(diào)查與研究。
首先,通過掃描電子顯微鏡分析、錯位曝光試驗、數(shù)據(jù)分析等方法進(jìn)行不良原因調(diào)查。
同時,借助開源軟件GIMP和Fiji進(jìn)行圖像處理得到面板灰度數(shù)據(jù),對色差程度進(jìn)行定量評價。 （共8頁）