HL-3裝置上離子回旋波加熱對中子產(chǎn)額的影響
核技術(shù)
頁數(shù)： 13 2024-05-15
摘要： 離子回旋射頻（Ion Cyclotron Range of Frequencies,ICRF）波加熱是托卡馬克裝置上至關(guān)重要的輔助加熱方式之一。托卡馬克裝置中國環(huán)流三號（HL-3，原名HL-2M）擬安裝加熱功率為6 MW的ICRF加熱系統(tǒng)。本工作利用TRANSP程序，模擬并研究了ICRF加熱的頻率和功率對聚變中子產(chǎn)額以及快離子分布的影響。研究結(jié)果表明：ICRF的頻率和功率對中子... （共13頁）
APP 