Pt涂層對TA4雙極板在質(zhì)子交換膜制氫電解池陽極環(huán)境中的電化學行為與界面導電性能研究

摘要： 采用直流脈沖磁控濺射技術(shù)在TA4鈦雙極板表面成功制備了Pt涂層，涂層的存在顯著提高了TA4在質(zhì)子交換膜制氫電解池陽極環(huán)境中的界面導電性能。隨著沉積時間的延長，Pt涂層的厚度從約0.29μm增長到約0.95μm，晶格常數(shù)從5 min的0.39112 nm增加到15 min的0.39128 nm；電化學研究表明Pt涂層樣品的開路電位比TA4高約0.77 V。延長沉積時間可進一步增大... （共7頁）