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Mg85Ni15減反層對(duì)玻璃襯底上VO2薄膜光電性能的影響

真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào) 頁(yè)數(shù)： 6 2024-03-26
摘要： 采用脈沖激光沉積技術(shù),在非晶玻璃襯底上生長(zhǎng)單斜晶相的二氧化釩(M-VO2)薄膜,并研究了Mg85Ni15減反層對(duì)M-VO2薄膜性能的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:在非晶玻璃襯底上制備的M-VO2薄膜具有單一取向且純度較高,并具有良好的光電熱致轉(zhuǎn)變性能。Mg85Ni15作為減反層,在沒(méi)有特別降低電學(xué)性能的基礎(chǔ)上,提高了薄膜的可見(jiàn)光透過(guò)率和太陽(yáng)能調(diào)節(jié)率。通過(guò)對(duì)減... （共6頁(yè)）

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