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基于廣度優(yōu)先搜索的全芯片光源掩模優(yōu)化關(guān)鍵圖形篩選方法

光學(xué)學(xué)報(bào) 頁(yè)數(shù): 11 2024-04-17
摘要: 提出一種基于廣度優(yōu)先搜索的全芯片光源掩模優(yōu)化關(guān)鍵圖形篩選方法。通過廣度優(yōu)先搜索算法得到所有圖形數(shù)最少的關(guān)鍵圖形組。以45 nm標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)測(cè)試圖形集為例,采用商用計(jì)算光刻軟件Tachyon Tflex對(duì)本文方法的篩選結(jié)果進(jìn)行仿真驗(yàn)證。結(jié)果表明,本文方法獲得的關(guān)鍵圖形組的工藝窗口優(yōu)于Tachyon Tflex中的同類技術(shù)。相比于基于深度優(yōu)先搜索的全芯片SMO關(guān)鍵圖形篩選方法,本文方... (共11頁(yè))

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