面向散射光場調控的波前整形方法及其成像應用（特邀）

摘要： 光學散射一直以來都被認為是限制光學成像深度的重要因素。近年來，波前整形方法克服光學散射的能力引起了研究人員的廣泛關注，其核心思想是通過對入射光進行相位調制，補償散射引起的波前擾亂。波前整形方法能夠有效地重新聚焦散射光，有望實現(xiàn)深層組織內高分辨率成像的目標?；仡櫫瞬ㄇ罢蔚臍v史發(fā)展，討論了不同類型的波前整形方法，展示了其在克服光學散射以實現(xiàn)深層組織成像方面的應用實例，并展望了波前... （共15頁）