結(jié)構(gòu)光照明顯微成像技術(shù)在集成電路掩模檢測(cè)中的應(yīng)用

摘要： 針對(duì)集成電路成熟制程下的掩模檢測(cè)需求，設(shè)計(jì)了一種適用于該應(yīng)用場(chǎng)景的透射式結(jié)構(gòu)光照明顯微（SIM）檢測(cè)系統(tǒng)。SIM技術(shù)在頻率域內(nèi)利用空間混頻將物體的高頻信息載入到光學(xué)系統(tǒng)的探測(cè)通帶，從而使分辨率突破衍射極限。采用數(shù)字微鏡器件（DMD）控制干涉光束的空間分布強(qiáng)度和相位，利用四方向照明（0°、45°、90°和135°，每個(gè)方向上分別有三個(gè)相位）提高各向同性的分辨率，并可選取級(jí)次較高的... （共8頁(yè)）