二維正交光柵結構的掠入射小角X射線散射測量

摘要： 掠入射小角X射線散射（GISAXS）可進行光柵納米結構的高分辨無損測量，有望應對半導體在未來節(jié)點的測量挑戰(zhàn)。然而，傳統(tǒng)的GISAXS方法主要用于線光柵的測量，對于二維正交光柵的測量缺乏較好的方案。本文提出了一種測量二維正交光柵結構關鍵尺寸的方法。建立了在任意入射角和旋轉(zhuǎn)角下定位二維正交光柵布拉格峰的理論模型，基于此模型可以從GISAXS散射信號中提取樣品倒易空間信息，從而實現(xiàn)三... （共8頁）