6.X nm下一代極紫外多層膜技術(shù)研究進(jìn)展

摘要： 集成電路的生產(chǎn)主要依靠光刻技術(shù)為主的工藝體系，采用波長(zhǎng)為13.5 nm光源的極紫外光刻是當(dāng)前最先進(jìn)的商用規(guī)模量產(chǎn)光刻技術(shù)，為集成電路的發(fā)展帶來(lái)前所未有的進(jìn)步。根據(jù)瑞利判據(jù)，為進(jìn)一步提高分辨率，以波長(zhǎng)6.X nm為光源的下一代“超越極紫外”光刻成為研究熱點(diǎn)。多層膜反射鏡是極紫外光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)中的關(guān)鍵器件，其反射率和壽命決定光刻機(jī)的曝光效率與成像質(zhì)量。綜述了6.X nm多層膜的研究... （共13頁(yè)）