極紫外光源用大口徑Mo/Si多層膜厚度控制與熱穩(wěn)定性研究

摘要： Mo/Si多層膜是13.5 nm極紫外波段理想的反射鏡膜系，它與極紫外光源的結(jié)合使得極紫外光刻成為了目前最先進(jìn)的制造手段之一。極紫外光源的實(shí)際應(yīng)用對(duì)Mo/Si多層膜提出了高反射率、高熱穩(wěn)定性、抗輻照損傷、大口徑等諸多要求。針對(duì)極紫外光源用Mo/Si多層膜面臨的膜厚梯度控制和高溫環(huán)境問題，利用掩模板輔助法對(duì)大口徑曲面基底上不同位置處的多層膜膜厚進(jìn)行修正；選擇C作為擴(kuò)散阻隔層材料，... （共9頁(yè)）