電子超純水制備過程典型痕量有機污染物去除機理

摘要： 基于某12寸半導體超純水中試線，對超純水系統(tǒng)各處理單元總有機碳（TOC）去除過程及有機組分分子質量分布情況進行了跟蹤檢測，探究了有機碳紫外降解（TOC-UV）裝置照射強度、水力停留時間和有機物分子鍵能對水中典型痕量有機污染物去除效果的影響。結果表明：兩級反滲透（RO）系統(tǒng)可去除98.5%的TOC，一級RO產水中含有97.3%分子質量低于350 u的中性小分子物質；在一定范圍內提... （共5頁）