單晶SiC磁流變彈性拋光墊的磁控拋光性能研究

摘要： 將智能可控材料磁流變彈性體(MRE)作為化學機械拋光中的拋光墊，研究不同磁控參數(shù)(顆粒類型、顆粒質(zhì)量分數(shù)、顆粒粒徑、固化磁場強度)的MRE拋光墊對單晶SiC的磁控拋光效果，并分析MRE拋光墊的磁控材料去除機制。結(jié)果表明：相比四氧化三鐵磁性顆粒，羰基鐵粉(CIP)磁性顆粒制備的MRE拋光墊，在拋光SiC時材料去除率(MRR)提高了52.2%;CIP質(zhì)量分數(shù)越大，拋光的MRR越大，... （共9頁）