計(jì)量型微米級(jí)X射線坐標(biāo)測(cè)量機(jī)空間分辨力標(biāo)準(zhǔn)器的研制

摘要： 針對(duì)現(xiàn)有計(jì)量型X射線坐標(biāo)測(cè)量機(jī)空間分辨力標(biāo)準(zhǔn)器無(wú)法溯源的問(wèn)題，研發(fā)了新型可溯源的空間分辨力標(biāo)準(zhǔn)器，并對(duì)其校準(zhǔn)方法進(jìn)行了探索研究。首先，基于線對(duì)卡法，利用光刻和電感耦合等離子體(ICP)刻蝕工藝研制了可定期溯源柵格標(biāo)準(zhǔn)器。然后，通過(guò)掃描電子顯微鏡實(shí)現(xiàn)了標(biāo)準(zhǔn)器的量值溯源，得到標(biāo)準(zhǔn)器的柵格周期為4～40μm,結(jié)果的均勻性可達(dá)0.1%,滿(mǎn)足目前計(jì)量型X射線坐標(biāo)測(cè)量機(jī)空間分辨率溯源需求。... （共7頁(yè)）