短距離壓電式噴射點膠衛(wèi)星滴形成機理及抑制策略

摘要： 噴射點膠是微電子封裝領(lǐng)域的核心技術(shù)，射流破碎產(chǎn)生的衛(wèi)星滴會造成基板污染、膠點形狀不規(guī)則等，是點膠技術(shù)面臨的難點問題。壓電式噴射點膠的真實服役工況是短距離(0.7～1.2 mm)射流過程，射流破碎發(fā)生在液滴接觸基板之后，破碎機制復雜，衛(wèi)星滴形成機理尚不明晰。以某環(huán)氧樹脂膠水為研究對象，基于試驗與數(shù)值模擬研究了短距離噴射點膠過程中衛(wèi)星滴的形成機理，并基于此提出衛(wèi)星滴抑制策略。研究表... （共9頁）