不同鍍膜方法對(duì)銅爆炸箔電爆炸性能及成本的影響

摘要： 為滿足不同應(yīng)用場(chǎng)景對(duì)爆炸箔電爆炸性能和成本的要求，對(duì)比研究了磁控濺射法、電子束蒸發(fā)法和電鍍法3種不同鍍膜技術(shù)制備的銅爆炸箔。通過X射線衍射（XRD）、掃描電子顯微鏡（SEM）和原子力顯微鏡（AFM）對(duì)爆炸箔的物相和微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征，同時(shí)分析不同制備方法對(duì)電阻和電爆炸性能的影響。研究表明：3種方法均能制備出純相銅薄膜，且都有較好的結(jié)晶度。電爆炸試驗(yàn)結(jié)果顯示：2 000 V時(shí)，磁... （共6頁(yè)）