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UV/H2O2氧化降解廢水中氨基三亞甲基膦酸性能及機(jī)理

環(huán)境工程學(xué)報(bào) 頁數(shù)： 8 2024-11-15
摘要： 本研究構(gòu)建了以185 nm紫外光(ultraviolet,UV)為光源的UV活化過氧化氫(H2O2)體系(UV/H2O2)，對(duì)工業(yè)廢水中阻垢劑氨基三亞甲基膦酸(amino trimethylene phosphonic acid,ATMP)進(jìn)行氧化降解。比較了UV、H2O2及UV/H2O2體系對(duì)ATMP的氧化降解效果。結(jié)果表明，UV/H2O2體系表現(xiàn)出較優(yōu)的... （共8頁）

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